Портал аспирантов
 

Вернуться   Портал аспирантов > Обучение в аспирантуре > Документы

Ответ
 
Опции темы
Старый 06.05.2013, 20:17   #91
Anton09
Newbie
 
Регистрация: 18.10.2009
Сообщений: 4
По умолчанию

Здравствуйте, уважаемые коллеги! При оформлении ИКД у технического секретаря возник вопрос: в графе "Приложения" нужно ставить количество приложений или кол-во страниц? Просто некоторые приложения занимают по несколько страниц. По-моему, кол-во приложений.
Anton09 вне форума   Ответить с цитированием
Реклама
Старый 06.05.2013, 20:47   #92
Lazialle
Full Member
 
Аватар для Lazialle
 
Регистрация: 11.01.2013
Сообщений: 151
По умолчанию

Там, вроде бы, отдельно есть строки: кол-во приложений и кол-во страниц.
Lazialle вне форума   Ответить с цитированием
Старый 07.05.2013, 10:49   #93
Kwest
Member
 
Регистрация: 16.06.2012
Сообщений: 70
По умолчанию

Цитата:
Сообщение от Anton09 Посмотреть сообщение
При оформлении ИКД у технического секретаря возник вопрос: в графе "Приложения" нужно ставить количество приложений или кол-во страниц?
Я ставил в этой колонке количество приложений, а не количество страниц.
Kwest вне форума   Ответить с цитированием
Старый 06.10.2013, 18:26   #94
olovs
Advanced Member
 
Регистрация: 18.07.2011
Сообщений: 326
По умолчанию

при оформлении ИКД возник вопрос: какое место работы писать? соискатель работает в одном вузе на полную ставку, а в вузе, где выполнена диссертация на 0,5 ставки совместителем. Защита в третьем вузе. Кто с такой проблемой сталкивался?
olovs вне форума   Ответить с цитированием
Старый 06.10.2013, 18:31   #95
Vica3
Platinum Member
 
Аватар для Vica3
 
Регистрация: 18.10.2008
Адрес: там, где кормят и любят
Сообщений: 7,638
По умолчанию

olovs, где ставка
---------
Есть разные виды лжи. Просто ложь, наглая ложь и официальные данные...
Карательная психиатрия еще в конце ХХ века предупреждала про галоперидол и патроны...
Помогаю с управлением индивидуальными показателями Высокой Вузовской Отчетности: от рецензий и публикаций до ДПО (КПК и ПП).
Vica3 вне форума   Ответить с цитированием
Старый 06.10.2013, 20:38   #96
После Ливанова буду Я!
Full Member
 
Аватар для После Ливанова буду Я!
 
Регистрация: 11.09.2013
Сообщений: 220
По умолчанию

olovs там, где лежит трудовая.
После Ливанова буду Я! вне форума   Ответить с цитированием
Старый 06.10.2013, 21:50   #97
olovs
Advanced Member
 
Регистрация: 18.07.2011
Сообщений: 326
По умолчанию

Цитата:
Сообщение от Vica3 Посмотреть сообщение
olovs, где ставка
трудовая лежит в коммерческом вузе, совместителем в гос вузе, где и была написана дисертация...

Добавлено через 1 минуту
человек совместителем на 0,5 в госвуз поступил чтобы оттуда на защиту выходить, а все время работал по трудовой в НОУ
olovs вне форума   Ответить с цитированием
Старый 26.06.2014, 19:45   #98
olsem1
Junior Member
 
Регистрация: 17.04.2009
Сообщений: 27
По умолчанию

Добрый день!
Подскажите, пожалуйста, заполняю ИК диссертации на сайте rosrid.ru. Нужно ли потом еще оформлять ИК на сайте ЦИТИС rntd.citis.ru?
Заранее благодарен!
olsem1 вне форума   Ответить с цитированием
Старый 30.06.2014, 09:45   #99
Assonia
Full Member
 
Аватар для Assonia
 
Регистрация: 03.09.2010
Адрес: Город П.
Сообщений: 153
По умолчанию

Я заполняла только в ЦИТиСе, а зачем первый вариант? Может быть, стоит без самодеятельности...

Хотя иногда без неё, конечно никуда... Мы с ученым секретарем измучились - после десятой правки (а каждый раз в заполненном бланке скидываются ученые степени всех и вся - научника, оппонентов, руководителей организации и совета) - в итоговой распечатке у начальника организации указывается не та степень и направление наук (возможно, это потому, что сначала указали другого руководителя - ректора, а а это как раз его регалии, потом заменили на проректора по научной работе и началась ерунда)- он доктор технических, а в печатном варианте упорно вылезает кандидат экономических. Пробовала создавать новую запись,в ней вообще многие поля не заполняются, т.е. их записываешь (сохраняешь), а в печатной форме они пустые и все тут. Будем пробовать вручную замазывать, но ведь вряд ли так подпишут... Ждать просрочки регистрации и все по новой?
Assonia вне форума   Ответить с цитированием
Старый 30.06.2014, 10:49   #100
@.n.g.e.r
Silver Member
 
Аватар для @.n.g.e.r
 
Регистрация: 27.12.2010
Адрес: Санкт-Петербург
Сообщений: 927
По умолчанию

Цитата:
Сообщение от olsem1 Посмотреть сообщение
на сайте rosrid.ru


Microsoft заботится о международных стандартах

Цитата:
Сообщение от olsem1 Посмотреть сообщение
Нужно ли потом еще оформлять ИК на сайте ЦИТИС rntd.citis.ru?
ЦИТиС по этому поводу говорит следующее:

Цитата:
С 1 января 2014 года введена в промышленную эксплуатацию Единая государственная информационная система учета результатов научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ гражданского назначения, выполняемых за счет средств федерального бюджета (ЕГИСУ НИОКР) (Постановление Правительства Российской Федерации от 12 апреля 2013 года № 327 "О единой государственной информационной системе учета научно-исследовательских, опытно-конструкторских и технологических работ гражданского назначения"), которая представлена на Интернет портале ФГАНУ ЦИТИС по адресу: http://www.rosrid.ru.

ЕГИСУ НИОКР начинает функционировать вместо ранее действовавшей системы Единой федеральной базы данных НИОКР (ЕФБД НИОКР), расположенной по адресу http://www.rnts.citis.ru.

С 1 июля 2014 года прием и регистрация вновь начинаемых НИОКР и отчетных материалов о НИОКР будет осуществляться только в системе ЕГИСУ НИОКР.
Не усматриваю слов о диссертациях. Там же дается ссылка на текущую форму для заполнения ИКД. Судя по всему, первую ИКД Вы заполнили не по месту назначения.
@.n.g.e.r вне форума   Ответить с цитированием
Ответ

Опции темы

Ваши права в разделе
Вы не можете создавать новые темы
Вы не можете отвечать в темах
Вы не можете прикреплять вложения
Вы не можете редактировать свои сообщения

BB коды Вкл.
Смайлы Вкл.
[IMG] код Вкл.
HTML код Выкл.



Текущее время: 03:42. Часовой пояс GMT +3.


Powered by vBulletin® Version 3.8.8
Copyright ©2000 - 2024, vBulletin Solutions, Inc. Перевод: zCarot
© 2001—2024, «Аспирантура. Портал аспирантов»
Рейтинг@Mail.ru